ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

### 快科技 2727
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)曾经开端出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。

NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的无效增补,终究台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。


同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,到达了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至多2.4nm,7nm要求至多3.5nm)。


ASML将于本季度末开端量产Twinscan NXT:2000i,代价未表露。现在,NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台,传统的ArF沉溺式光刻机(14nm节点)报价是7200万美元之间, NXT:2000i一定是在这两者之间了。


ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

最初复杂介绍下ASML公司,其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组,2017年环球光刻机市场占比7成,是相对的一哥,前面随着的是佳能、尼康和上海微电子。


集成电路在制造历程中履历质料制备、掩膜、光刻、刻蚀、洗濯、掺杂、机器研磨等多个工序,此中以光刻工序最为要害,它是整个集成电路财产制造工艺先辈水平的紧张目标,即在芯片制造历程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。(上刻出晶体管器件的布局和晶体管之间的毗连通路。)
ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

图为NXE:3300 EUV光刻机
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