ASML出货新光刻机NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工艺

据外媒报道，光刻机霸主ASML（阿斯麦）曾经开端出货新品Twinscan NXT:2000i DUV（NXT:2000i双工件台深紫外光刻机），可用于7nm和5nm节点。

NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的无效增补，终究台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。

同时，NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产品，到达了和3400B一样的1.9nm（5nm要求至多2.4nm，7nm要求至多3.5nm）。

ASML将于本季度末开端量产Twinscan NXT:2000i，代价未表露。现在，NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台，传统的ArF沉溺式光刻机（14nm节点）报价是7200万美元之间， NXT:2000i一定是在这两者之间了。

ASML出货新光刻机NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工艺

最初复杂介绍下ASML公司，其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组，2017年环球光刻机市场占比7成，是相对的一哥，前面随着的是佳能、尼康和上海微电子。

集成电路在制造历程中履历质料制备、掩膜、光刻、刻蚀、洗濯、掺杂、机器研磨等多个工序，此中以光刻工序最为要害，它是整个集成电路财产制造工艺先辈水平的紧张目标，即在芯片制造历程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。（上刻出晶体管器件的布局和晶体管之间的毗连通路。）
ASML出货新光刻机NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工艺

图为NXE:3300 EUV光刻机